北京石久高研金属材料|氧化铜|氧化铜厂
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- 名称北京石久高研金属材料有限公司 【公司网站】
- 所在地中国
- 联系人 史永泰
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价格
面议
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- 采购量 不限制
- 发布日期 2018-02-11 03:03 至 长期有效
北京石久高研金属材料|氧化铜|氧化铜厂产品详情
金属靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
金属靶材简单说的话,例如:蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜...铝膜等。更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、*、防腐的合金膜等)。 钨-钛(W-Ti)膜以及以钨-钛(W-Ti)为基的合金膜是高温合金膜,氧化铜厂家,具有一系列*的优良性能。钨具有高熔点、高强度和低的热膨胀系数等性能,W/ Ti 合金具有低的电阻系数、良好的热稳定性能和****氧化性能。如各种器件都需要起到导电作用的金属布线,例如Al 、Cu 和Ag 等已经被广泛的应用和研究。但是布线金属本身易 氧化、易与周围的环境发生反应,与介质层的粘结性差,易扩散进入Si 与SiO2 等器件的衬底材料中,并且在较低的温度下会形成金属与Si 的化合物,氧化铜, 充当了杂质的角色,使器件的性能大幅度下降。而W-Ti 合金因具有稳定的热机械性能、低的电子迁移率、高的*腐蚀性能和化学稳定性使其很容易作为布线扩散阻挡层,特别是适合在高电流和高温的环境下使用。
石久高研专注15年提供高纯金属靶材 *、高纯靶材欢迎来电咨询~~
溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
磁控溅射靶材原理:
磁控溅射一般分为二种:直流溅射和射频溅射,其中直流溅射设备原理简单,在溅射金属时,其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛,除可溅射导电材料外,也可溅射非导电的材料,同时还可进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率****后就成为微波等离子体溅射,氧化铜出售,如今,氧化铜多少钱,常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。
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溅射靶材
北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。
溅射靶材原理: 以pld为例,因素主要有:靶材与基片的晶格匹配程度 镀膜氛围(低压气体氛围) 基片温度 激光器功率 脉冲频率 溅射时间 对于不同的溅射材料和基片,尽量参数需要实验确定,是各不相同的,镀膜设备的好坏主要在于能否准确控温,能否保证好的真空度,能否保证好的真空腔清洁度。
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