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溅射靶材的主要应用

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年， 公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材就是目标材料。用于高能激光中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤*效应。用于物理镀膜中的溅镀，主要有金属靶材和陶瓷靶材

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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年，铌靶多少钱， 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材原理： 以pld为例，因素主要有：靶材与基片的晶格匹配程度 　镀膜氛围（低压气体氛围） 　基片温度 　激光器功率 　脉冲频率 　溅射时间 　对于不同的溅射材料和基片，尽量参数需要实验确定，是各不相同的，镀膜设备的好坏主要在于能否准确控温，铌靶，能否保证好的真空度，能否保证好的真空腔清洁度。

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靶材要求：

纯度 陶瓷靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大，陶瓷靶材的纯度越高，铌靶供应商，溅射薄膜的均匀性和批量产品质量的一致性越好。近年来随着微电子产业的迅速发展，硅器件布线宽度已发展到0．13μm，对成膜面积的薄膜均匀性要十分严格，其纯度必须大于4N。此外显示平面用的ITO靶材对纯度也要求十分严格，铌靶价格，要求ITO的纯度都大于4N。磁性薄膜用陶瓷靶材的纯度也要不低于3N。靶材作为溅射中的阴****源，固体中的杂质是沉积薄膜的主要污染源，如：碱金属离子(Na 、K )易在绝缘层(SiO)中成为可移动性离子，降低元器件性能，其含量须在0．01ppm(重量)以下。

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