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溅射靶材的主要应用

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

溅射靶材就是目标材料。用于高能激光中,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会产生不同的杀伤*效应。用于物理镀膜中的溅镀,主要有金属靶材和陶瓷靶材

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光学镀膜

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

技术特征

1)*代*磨损膜技术

*磨损膜始于20世纪70年代初,当时认为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高,而有机镜片则太软所以容易磨损。因此将石英材料于真空条件下镀在有机镜片表面,形成一层非常硬的*磨损膜,但由于其热胀系数与片基材料的不匹配,很容易脱膜和膜层脆裂,因此*磨损效果不理想。

2)第二代*磨损膜技术

20世纪80年代以后,研究人员从理论上发现磨损产生的机理不仅仅与硬度相关,膜层材料具有“硬度/形变”的双重特性,即有些材料的硬度较高,但变形较小,而有些材料硬度较低,但变形较大。第二代的*磨损膜技术就是通过浸泡工艺法在有机镜片的表面镀上一种硬度高且不易脆裂的材料。

3)第三代*磨损膜技术

第三代的*磨损膜技术是20世纪90年代以后发展起来的,主要是为了解决有机镜片镀上减反射膜层后的*性问题。由于有机镜片片基的硬度和减反射膜层的硬度有很大的差别,新的理论认为在两者之间需要有一层*磨损膜层,使镜片在受到砂砾磨擦时能起缓冲作用,并而不容易产生划痕。第三代*磨损膜层材料的硬度介于减反射膜和镜片片基的硬度之间,其磨擦系数低且不易脆裂。

4)第四代*磨损膜技术

第四代的*膜技术是采用了硅原子,例如法国依视路公司的帝镀斯(TITUS)加硬液中既含有有机基质,又含有包括硅元素的无机超微粒物,使*磨损膜具备韧性的同时又****了硬度。现代的镀*磨损膜技术****主要的是采用浸泡法,铝硅合金价格,即镜片经过多道清洗后,铝硅合金,浸入加硬液中,一定时间后,以一定的速度提起。这一速度与加硬液的黏度有关,并对*磨损膜层的厚度起决定作用。提起后在100 °C左右的烘箱中聚合4-5小时,铝硅合金厂家,镀层厚约3-5微米。

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溅射靶材

北京石久高研金属材料有限公司成立于2005年,铝硅合金厂, 石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作,为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供*的靶材和蒸发料。公司主营金属靶材、金属材料、光学镀膜材料等。

靶材要求:

纯度 陶瓷靶材的纯度对溅射薄膜的性能影响很大,陶瓷靶材的纯度越高,溅射薄膜的均匀性和批量产品质量的一致性越好。近年来随着微电子产业的迅速发展,硅器件布线宽度已发展到0.13μm,对成膜面积的薄膜均匀性要十分严格,其纯度必须大于4N。此外显示平面用的ITO靶材对纯度也要求十分严格,要求ITO的纯度都大于4N。磁性薄膜用陶瓷靶材的纯度也要不低于3N。靶材作为溅射中的阴****源,固体中的杂质是沉积薄膜的主要污染源,如:碱金属离子(Na 、K )易在绝缘层(SiO)中成为可移动性离子,降低元器件性能,其含量须在0.01ppm(重量)以下。

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