云浮真空,诺思【好品质】,超高真空

用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴****），等离子体，和被溅零件真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，****高真空，同时接地技术很复杂，因而难大规模采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，云浮真空，加入反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，非标真空系统，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。

由于真空镀膜设备要在真空条件下工作，超高真空，因此该设备要满足真空对环境的要求。我国制定的各种真空镀膜设备的行业标准（包括真空镀膜设备通用技术条件、真空离子镀膜设备、真空溅射镀膜设备、真空蒸发镀膜设备）都对环境要求作了明确规定。只有满足了真空镀膜设备对环境的要求，才能使该设备正常运转，加上正确的镀膜工艺，方能生产出合格的镀膜产品。