pvd真空镀膜机、佛欣真空、福鼎真空镀膜机

磁控溅射铁磁性靶材的主要方法：由于磁控溅射磁性靶材的难点是靶材表面的磁场达不到正常磁控溅射时要求的磁场强度，因此解决的思路是增加铁磁控性靶材表面剩磁的强度，以达到正常溅射工作对靶材表面磁场大小的要求。

实现的途径主要有以下几种：

1、靶材设计与改进（将铁磁性靶材的厚度减薄是解决磁控溅射铁磁材料靶材的****常见方法。）；

2、增强磁控溅射阴****的磁场；

3、降低靶材的磁导率；

4、设计新的溅射阴****装置；

5、设计新的磁控溅射系统；

6、靶材与溅射阴****装置的综合设计。

Ｂ　化学气相沉积的优点

（１）既可制造金属膜，又可按要求制造多成分的合金膜，通过

多种气体原料的流量进行调节，能够在相当大的范围内控制产

的组分并能制取混晶等复杂组成和结构的晶体，同时能制取用

他方法难以得到的****晶体。

（２）速度快，一般是每分钟几个微米甚至能达到每分钟几百

微米，同一炉中可放入大批量的工件，并能同时取得均一的镀

。这是其他的薄膜生长法，福鼎真空镀膜机，如液相外延和分子束外延等方法远

不能比拟的。

（３）镀层质量高：由于所沉积的薄膜不断地受到阳离子的轰

从而引起了冷凝物发生溅射，致使膜层*致密。

（４）工艺操作简单，成膜速度快，可镀制厚膜。

（５）可镀材质广泛：这种镀膜方法可以在金属或非金属表面

镀制金属或非金属材料，pvd真空镀膜机，如对塑料、石英、陶瓷和橡胶等材料，以

各种金属、合金和某些合成材料、热敏材料和高熔点材料等，实验室用真空镀膜机，都

镀覆。

（６）沉积*：一般说来，离子镀沉积几十纳米至微米量级

度的膜层，其速度较其他方法为快。