CCD、昆山迎福泰光电、CCD公司

CCD芯片的尺寸CCD的成像尺寸常用的有1/2"、1/3"等，成像尺寸越小的摄像机的体积可以做得更小些。在相同的光学镜头下，成像尺寸越大，视场角越大。芯片规格 成像面大小（宽X高） 对角线 1/2 6.4x4.8mm 8mm 1/3 4.8x3.6mm 6mm.

像素：这个是常见的参数。在芯片确定的情况下，像素越高，灵敏度越低，两者是反比关系，所以像素不是越高越好，CCD质量哪家好，在像素够用的情况下应尽量优先确保灵敏度。

NEW STRUCTURE CCD

在摄影机的光学镜头的光圈F值不断的提升下，进入到摄影机内的斜光就越来越多，CCD公司电话，使得入射到CCD组件的光无法百分之1百的被聚焦到感测器上，而CCD感测器的感度将会降低。1998年索1尼公司为****这个问题，CCD，将彩色滤光片和遮光膜之间再加上一层内部的镜片。加上这层镜片后可以****内部的光路，使斜光也可以被聚焦到感光器。而且同时将硅基板和电****间的绝缘层薄膜化，让会造成垂直CCD画面杂讯的讯号不会进入，使SMEAR特性****。

2006年元月，波义耳和史密1斯获颁电机电子工程师学会（IEEE）颁发的Charles Stark Draper奖章，以表彰他们对CCD发展的贡献。

北京时间2009年10月6日，2009年诺贝尔物理学奖揭晓，瑞典皇家科学院诺贝尔奖委1员会宣布将该奖项授予一名中国香港科学家高锟(Charles K. Kao）和两名科学家维拉·博伊尔（WillaS. Boyle）和乔治·史密1斯（George E. Smith）。科学家Charles K. Kao 因为“在光学通信领域中光的传输的开创性成就” 而获奖，科学家因博伊尔和乔治-E-史密1斯因“发明了成像半导体电路——电荷藕合器件图像传感器CCD” 获此殊荣。

CCD光电荷的转移途径：有CCD表面沟道（SCCD)和体沟道（BCCD，也称为埋沟道CCD)两种方式。表面沟道CCD的电荷转移途径距离半导体-绝缘体分界面较近，工艺简单，动态范围大，但信号电荷的转移受表面态的影响，转移速度和转移效率低，工作频率一般在10MHz以下。为了消除这种现象，以****CCD的工作速度，用离子注入方法转移沟道的结构，从而使势能****小值脱离界面而进入衬底内部，形成体内的转移沟道，避免了表面态的影响，这就是体沟道CCD.体沟道CCD的转移效率大大****，工作频率可高达100MHz，且能做成大规模器件。