激光器真空系统|双鸭山真空|诺思【质量到位】(查看)

磁控溅射设备的主要用途：

各种功能性薄膜：如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜。例如，低温沉积氮化硅减反射膜，以****太阳能电池的光电转换效率。

时沿装饰领域的应用，如各种全反射膜及半透明膜等，激光器真空系统，如手机外壳，真空系统集成，鼠标等。

在微电子领域作为一种非热式镀膜技术，主要应用在化学气相沉积(CVD)或金属有机

化学气相沉积(MOCVD)生长困难及不适用的材料薄膜沉积，而且可以获得面积非常均匀的薄膜。

在光学领域：中频闭合场非平衡磁控溅射技术也已在光学薄膜(如增透膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃等方面得到应用。特别是透明导电玻璃目前广泛应用于平板显示器件、太阳能电池、微波与射频屏蔽装置与器件、传感器等。

气体及控制系统。

*气是进行磁控溅射时应用****广泛的气体。在溅射时，*气的多少直接关系到溅射速率以及溅射的均匀性等，因此需要严格控制气体的进气量，一般用质量流量计来实现控制。

溅射功率的增加会****膜厚的均匀性、溅射速率，随着溅射功率的增加，等离子体的面积增大，双鸭山真空，因此膜层的均匀性会****。功率的*，能*****气的电离度，*溅射出的靶材原子数量，从而****了溅射速率。