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广州市尤特新材料有限公司是一家扎根于电子信息材料行业的高新技术企业,以生产信息存储记录材料为起点,顺延产业技术发展的方向,深耕产业技术应用的潜力,经过11年的开拓已发展成为拥有电子浆料(*镀膜技术)、金属薄膜靶材(真空镀膜靶材技术)信息存储记录材料(激光读写光盘生产技术)、工程塑料(PC再生造粒及改性技术)、触控显示材料(手机、平板触摸屏材料)、石墨烯材料(导电、散热)、UV化工材料(UV油墨、UV电子胶粘剂)这七大核心技术为中心的产业集团。

磁控溅射镀膜靶材:

金属溅射镀膜靶材,合金溅射镀膜靶材,陶瓷溅射镀膜靶材,硼化物陶瓷溅射靶材,碳化物陶瓷溅射靶材,氟化物陶瓷溅射靶材 ,氮化物陶瓷溅射靶材 ,氧化物陶瓷靶材,溅射靶材厂家供应,硒化物陶瓷溅射靶材 ,硅化物陶瓷溅射靶材 ,溅射靶材厂家,硫化物陶瓷溅射靶材 ,碲化物陶瓷溅射靶材 ,其他陶瓷靶材,掺铬一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO),磷化铟靶材(InP),*1化铅靶材(PbAs),溅射靶材厂家生产,*1化铟靶材(InAs)。

高纯高密度溅射靶材有:

溅射靶材(纯度:99.9%-99.999%)

1. 金属靶材:

镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、*靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等金属溅射靶材。

2. 陶瓷靶材

ITO靶、AZO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化*靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶,、二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三氧化钨靶,三氧化二铝靶五氧化二钽,五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、****靶、氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶等陶瓷溅射靶材。

3.合金靶材

镍铬合金靶、镍钒合金靶、铝硅合金靶、镍铜合金靶、钛铝合金、镍钒合金靶、硼铁合金靶、硅铁合金靶等高纯度合金溅射靶材。




广州市尤特新材料有限公司是一家扎根于电子信息材料行业的高新技术企业,经过11年的开拓已发展成为拥有电子浆料、金属薄膜靶材、信息存储记录材料、工程塑料、触控显示材料、石墨烯材料、UV化工材料这七大核心技术为中心的产业集团。

磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场与电子交互作用,使电子在靶表面附近成螺旋状运行,从而*电子撞击*气产生离子的概率。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出溅射靶材。在近几十年的发展中,大家逐渐采用永1久磁铁,很少用线圈磁铁。

  中频溅射的原理跟一般的直流溅射是相同的,不同的是直流溅射把筒体当阳****,而中频溅射是成对的,筒体是否参加必须视整体设计而定,与整个系统溅射过程中,阳****阴****的安排有关,参与的比率周期有很多方法,不同的方法可得到不相同的溅射产额,得到不相同的离子密度。

  中频溅射主要技术在于电源的设计与应用,目前较成熟的是正弦波与脉冲方波二种方式输出,各有其优缺点,首先应考虑膜层种类,分析哪种电源输出方式适合哪种膜层,可以用电源特性来得到想要的膜层效果。

  中频的靶材用的对靶,溅射靶材有的用到三对.靶都是比较大,就中频而言,溅射靶材厂家价格,现在用的多的都是镀一些金属的工件.这样的真空炉一般都做的比较大,可以放下很多任务件,镀出来的膜层也更加的致密.






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