步进光刻机_杭州步进光刻机_晋宇达

张家港晋宇达电子科技有限公司

     步进重复投影*（Stepping-repeating Project Printing或称作Stepper）。80年代末～90年代，0.35μm（I line）～0.25μm（DUV）。掩膜板缩小比例（4：1），*区域（Ex*ure Field）22×22mm（一次*所能覆盖的区域）。增加了棱镜系统的制作难度。

晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备        

光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动

一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准*、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

     张家港晋宇达电子科技有限公司客户主要分布在北京，上海，苏州，无锡，绍兴，深圳，东莞，厦门，福州，西安等地区。

扫描步进投影*（Scanning-Stepping Project Printing）。90年代末～至今，用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4：1的比例*，*区域（Ex*ure Field）26×33mm。优点：*了每次*的视场；提供硅片表面不平整的补偿；****整个硅片的尺寸均匀性。但是，同时因为需要反向运动，增加了机械系统的精度要求。