晋宇达(图)|北京步进光刻机|步进光刻机

     随着光刻技术的不断发展，光学光刻已从传统的G线、I线到，发展到远紫外，197nm以及157nm，设备的占用成本越来越高，而随着集成电路设计尺寸的继续缩小，更为严格的套刻指标和巨额的设备成本，混合匹配使用将成为一种必然的需要。各种混合匹配，以及光学光刻之后下一代光刻系统的混合匹配是需要不断研究的新课题。

      晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。由于我们的客户遍布全国各地，我们有****的设备存储，运输及调试的一条龙服务团队。

      ****光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的****光刻机）和日本Canon三大品牌为主。

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光刻注意事项给出如下：

涂胶

　　涂胶时要注意将基片放在吸盘正中间，且吸盘水平度较高，否则会影响胶模厚度的均匀性；匀胶时一般先低速旋转将胶模铺开，然后高速决定胶模厚度，一般转速在1000～5 000 rpm。