光刻机_晋宇达(****商家)_厦门光刻机用途

      晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。

光刻注意事项给出如下：

前烘

　　前烘的目的是去除胶模中的绝大部分溶剂，增强胶模的光敏性。还可以****胶模的均匀性和黏附性。前烘温度不高，一般为100℃左右。

光刻机

      传统光刻机的投影物镜多采用全折射式设计方案，即物镜全部由旋转对准装校的透射光学元件组成。其优点是结构相对简单，易于加工与装校，局部杂散光较少。然而，大数值孔径全折射式物镜的设计非常困难。为了校正场曲，必须使用大尺寸的正透镜和小尺寸的负透镜以满足佩茨瓦尔条件，即投影物镜各光学表面的佩茨瓦尔数为零。

       晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。

光刻注意事项给出如下：

涂胶

　　涂胶时要注意将基片放在吸盘正中间，且吸盘水平度较高，否则会影响胶模厚度的均匀性；匀胶时一般先低速旋转将胶模铺开，然后高速决定胶模厚度，一般转速在1000～5 000 rpm。