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手机壳镀膜设备可分为手机外壳镀膜和手机内壳镀膜。手机外壳镀膜一般选用不导电(NCVM)膜镀膜设备和电子枪光学镀膜机;而手机内壳镀膜一般采用磁控溅射(EMI)*镀膜设备。

不导电膜镀膜设备是在真空室中利用电阻加热法,将紧贴在电阻丝上的金属丝(锡丝、铟银合金丝)熔融汽化,汽化了的金属分子沉积于基片上,而获得光滑反射率的膜层,达到装饰美化物品表面的目的。应用于塑料电子产品:手机外壳、手机按键、电脑、数码、电子通信等的表面镀制不导电膜。

电子枪光学镀膜机特点:多层膜、透光率高、金属感强、致密性好、重复性好。


超硬膜镀膜机一般采用中频多弧离子镀膜方式镀膜。离子镀技术适用于沉积硬质薄膜。离子镀硬质*镀层作为超硬*磨损保护膜广泛应用于手表、表带、钟表、刀具、模具、钻头、铣刀、齿轮刀具、拉刀、剪刀、刮面刀片、丝锥、螺母、*磨零件(汽车*件及医疗器械等)。常用膜系包括TiN、ZrN、HfN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、 Al2O3等,更适用于更坚硬的类金刚石DLC、TiB2和碳氮CNx膜。

这些硬质层大大****了工模具的*磨损能力,有效延长了使用寿命,降低了生产成本,****了加工精度。


真空镀膜设备磁控溅射的使用范围很广, 可制备成靶材的各种材料均可以此方法制备成薄膜材料, 包括各种金属、半导体、铁磁材料、绝缘的氧化物、陶瓷、聚合物等物质。在适当的条件下, 可采用共溅方式沉积所需组分的混合物薄膜; 也可以在溅射的放电气氛中加入氧、氮或其它活性气体, 可反应沉积形成靶材物质与气体分子的化合物薄膜;它的优点是对靶材的导电性没有要求。反应溅射既可以是直流反应溅射, 也可以是射频反应溅射。共溅射是使用两个由不同材料制备的阴****靶, 同时进行溅射, 通过调节阴****靶上溅射放电电流, 来改变薄膜的成分。还可以在一个主要的靶材的表面, 固定或粘贴其它材料薄片, 实现共溅。

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