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半导体光刻技术F(2)准分子激光*

****了折反射光学系统的性能

波长为157nm的F2准分子激光器的特点是带宽很窄,Cymer公司的产品,其带宽为0.6~0.7 pm,窄带宽****了折反射光学系统的性能。折反射光学系统的关键是分束器立方体,它使用CaF2材料,能有效地减少束程和系统的体积,大尺寸易碎的CaF2一直是157nm*的制约因素,现在SVGL已展出了12~15英寸的CaF2单晶锭,这为制造大数值孔径的折反射分束器设计扫清了道路。



晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备        

光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。

公司透过从技术维修服务的突破性整合,致力*企业核心竞争力,以客户为中心、服务为核心和销售作为经营理念,为大陆提供****服务为宗旨的企业思想,对于一些*客户及在长三角,珠三角,北京等地,我公司在香港、上海、无锡、张家港等地设立了分公司及办事处,并长期有工程师驻扎。


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光刻机的品牌众多,根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类:****的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种,分辨率通常在十几纳米至几微米之间,****光刻机号称世界上****精密的仪器,世界上已有7000万美金的光刻机。****光刻机堪称现代光学工业之花,其制造难度之大,全世界只有少数几家公司能够制造。

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