管式炉、热科炉业(在线咨询)、快速降温管式炉

真空管式炉均系周期作业式。供实验室、工矿企业、科研单位作元素分析测定和一般小型钢件的淬火、退火、回火和电子陶瓷等新材料的加热用。本系列设备的成套供应范围有温度控制器、热电偶、补偿导线等。温度控制有继电器控制、可控硅控制二种，由于是间歇式作业炉，一般都采用40段PlD*可编程控制，能严格控制产品的烧制过程。

PECVD法按沉积腔室等离子源与样品的关系上可以分成两种类型：

直接法：样品直接接触等离子体，样品或样品的支撑体就是电****的一部分。

间接法：或称离域法。待沉积的样品在等离子区域之外，等离子体不直接打到样

品表面，样品或其支撑体也不是电****的一部分。

直接法又分成两种：

（1）管式PECVD系统：即使用像扩散炉管一样的石英管作为沉积腔室，使用电阻炉作为加热体，将一个可以放置多片硅片的石墨舟插进石英管中进行沉积。这种设备的主要制造商为德国的Ce*otherm公司、中国的捷佳伟创公司、第四十八研究所、七星华创公司、青岛赛瑞达公司。

（2）板式PECVD系统：即将多片硅片放置在一个石墨或碳纤维支架上，放入一个金属的沉积腔室中，腔室中有平板型的电****，与样品支架形成一个放电回路，在腔室中的工艺气体在两个****板之间的交流电场的作用下在空间形成等离子体，分解SiH4中的Si和H，以及NH3中的N形成SiNx沉积到硅表面。这种沉积系统目前主要是日本岛津公司在进行生产。

间接法又分成两种：

（1）微波法：使用微波作为激发等离子体的频段。微波源置于样品区域之外，先将氨气离化，再轰击*气，产生SiNx分子沉积在样品表面。这种设备目前的主要制造商为德国的Roth&Rau公司。

（2）直流法：使用直流源激发等离子体，进一步离化氨气和*气。样品也不与等离子体接触。这种设备由荷兰的OTB公司生产。

管式气氛电阻炉主要运用于冶金，玻璃，热处理，锂电正负****材料，新能源，磨具等行业测定材料在一定气氛条件下的****设备。

优点：工艺成熟;炉型结构简单；操作容易，便于控制，能连续生产；乙烯、*收率较高，产物浓度高；动力消耗少，热*；裂解气和烟道气的大部分可以设法回收；原料的适用范围随着裂解技术的进步而日渐扩大；可以多炉组合而大型生产。