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气相法

是直接利用气体，或者通过各种手段将物质转变为气体，使之在气体状态下发生物理变化或者化学反应，****后在冷却过程中凝聚长大形成纳米粒子的方法。用该法可制备纯度高、颗粒分散性好、粒径分布窄、粒径小的纳米陶瓷粉体。气相法又可分为气体中蒸发法、化学气相反应法、溅射源法、流动油面上真空沉积法和金属蒸汽合成法。

产品概述：

RK-1400T-S6010LB3三温区真空气氛管式炉以硅碳棒为发热元件；双层风冷结构；高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型；高密度硅碳棒真空挤压成型；刚玉管外径为60、80mm。三个温区分别由三个*的温控系统来控制且都为PID30段程序化控温。可通过调节三个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度，炉管两端装有不锈钢法兰，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，抽真空时真空度能够达到10-3 Pa,此系列真空气氛管式炉可以用CVD或PVD方法来生长纳米材料和制作各种薄膜。

主要用途：

RK-1400T-S6010LB3三温区真空气氛管式炉是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品. ，广泛用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。

　目前，在中国微波法PECVD系统占据市场的主流，而管式PECVD系统也占据不少份额，而岛津的板式系统只有5~6条生产线在使用。直流法PECVD系统还没有进入中国市场。

　　除了上述几种模式的PECVD系统外，美国的Applied

Material公司还开发了磁控溅射PECVD系统，该系统使用磁控溅射源轰击高纯硅靶，在氨气的气氛中反应溅射，形成SiNx分子沉积到样品表面。这种技术的优点是不使用*的*气，安全性****很多，另外沉积速率很高。

如果按照PECVD系统所使用的频率范围，又可将其分成以下几类：

　　■ 0 Hz：直流间接法——OTB公司

　　■ 40 KHz：Ce*otherm公司管式直接法PECVD和Applied Material公司的磁控溅射系统

　　■ 250 kHz：岛津公司的板式直接法系统

　　■ 440 kHz：Semco公司的板式直接法

　　■ 460 kHz：Ce*otherm公司管式直接法

　　■ 13.6 MHz：Semco公司和MVSystem公司的板式直接法系统

　　■ 2450 MHz：Roth&Rau公司的板式间接法系统。