无锡光刻机|光刻机|晋宇达

张家港晋宇达电子科技有限公司

光刻机Photolithography（光刻） 意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“*”到硅片上的过程。

我们的客户遍布全国各地，我们有****的设备存储，运输及调试的一条龙服务团队。

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光刻机对准系统另外一个技术难题就是对准显微镜。为了增强显微镜的视场，许多****的光刻机，采用了LED照明。对准系统共有两套，具备调焦功能。主要就是由双目双视场对准显微镜主体、目镜和物镜各1对（光刻机通常会提供不同放大倍率的目镜和物镜供用户组合使用）。

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光刻机性能指标光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、*方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的****细线条精度的一种描述方式。

光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。