步进光刻机_步进光刻机_晋宇达

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光刻机性能指标光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、*方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的****细线条精度的一种描述方式。

光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。

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光刻机样片调平机构包括球座和半球。调平过程中首先对球座和半球通上压力空气，再通过调焦手轮，使球座、半球、样片向上运动，使样片与掩模相靠而找平样片，然后对二位三通电磁阀将球座和半球切换为真空进行锁紧而保持调平状态。样片调焦机构由调焦手轮、杠杆机构和上升直线导轨等组成，调平上升过程初步调焦，调平完成锁紧球气浮后，样片和掩模之间会产生一定的间隙，因此必须进行微调焦。另一方面，调平完成进行对准，必须分离一定的对准间隙，也需要进行微调焦。

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光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：****的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常在十几纳米至几微米之间，****光刻机号称世界上****精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机。****光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。