半导体_合肥半导体清洗设备_苏州晶淼半导体

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名称苏州晶淼半导体设备有限公司【公司网站】
所在地中国
联系人 王海龙
价格面议点此议价
采购量 1
发布日期 2016-12-05 12:48 至长期有效

热线：18913753756

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RCA清洗法:自从20世纪70年代RCA清洗法问世之后，几十年来被*广泛采用。它的基本步骤****初只包括碱性氧化和酸性氧化两步，但目前使用的RCA清洗大多包括四步，即先用含*的酸性*进行酸性氧化清洗，再用含胺的弱碱性*进行碱性氧化清洗，接着用稀的****溶液进行清洗，****后用含盐酸的酸性*进行酸性氧化清洗，在每次清洗中间都要用超纯水（DI水）进行*洗，****后再用低沸点*进行干燥。

为了半导体清洗技术能满足不断出现的新需求，必须对现有工艺进行调整和修改。随着纵向尺寸持续缩小，清洗操作过程中的材料损失和表面粗糙就会成为必须关注的领域。将微粒去除而又没有材料损失和图形损伤是****基本的要求，因此必须考虑周全并有所折衷。

就清洗媒介来说，湿法清洗仍然是现代****晶圆清洗工艺的主力。虽然Si技术中的清洗化学材料与****初RCA的配方相差不大，但整体工艺****明显的改变包括：采用了非常稀释的溶液；简化工艺；广泛使用臭氧水。

以上内容为半导体_合肥半导体清洗设备_苏州晶淼半导体，本产品由苏州晶淼半导体设备有限公司直销供应。

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