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半导体、苏州晶淼半导体(****商家)、芜湖半导体清洗台
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- 名称苏州晶淼半导体设备有限公司 【公司网站】
- 所在地中国
- 联系人 王海龙
- 价格 面议 点此议价
- 采购量 1
- 发布日期 2016-11-30 17:55 至 长期有效
热线:18913753756
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半导体、苏州晶淼半导体(****商家)、芜湖半导体清洗台产品详情
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半导体水基清洗剂主要用于清洗表面沾污有石蜡、油脂和油脂类高分子化合物以及表面沾污有金属原子和金属离子等。在半导体分立器件和中、小规模集成电路中能够完全代替传统半导体清洗工艺中使用的清洗液。
MEMS制造的特点是,它含有3D精细图形的深刻蚀,并要求横向深刻蚀埋层氧化物的释放加工工艺。用常规的湿法刻蚀和清洗技术是不能完成从这种非常紧密的几何图形除去可能的刻蚀残留物,并确保悬臂梁和膜片的无静摩擦操作的。已经研究用无水HF/****(AHF/MeOH))牺牲层氧化物刻蚀工艺作为后者的可行解决方法。
清洗常用的化学*
*(ACE):【用途】除去有机残余物,有机颗粒;除去光刻胶。 ****(IPA):【用途】溶解*,将有机残余物溶解。 DI水:【用途】溶解****,带走残余物。 ? SPM: (H2SO4 : H2O2 : H2O)。
以上内容为半导体、苏州晶淼半导体(****商家)、芜湖半导体清洗台,本产品由苏州晶淼半导体设备有限公司直销供应。
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