半导体、苏州晶淼半导体、苏州半导体设备

     苏州晶淼半导体设备有限公司致力于向客户提供湿法制程刻蚀设备、清洗设备、****PP/PVC通风柜/厨、CDS*集中供液系统一站式解决方案。精良的产品质量是我们的根本，超客户预期是我们的自我需求！

　　清洗设备在主要清洗物质依制程不同而清除对象而有所差异，Wet Station主要清除物质为污染微粒、Organic与 MetalIon、NativeOxide等。而单晶圆设备则对污染微粒与金属有较佳的去除效果。然而，随着半导体厂着重于缩短时间、降低成本、更好的制程表现、低污染与低耗能等诉求，目前全球各大设备厂也不断以单芯片清洗设备为主要研发机种。

   RCA清洗法:自从20世纪70年代RCA清洗法问世之后，几十年来被*广泛采用。它的基本步骤****初只包括碱性氧化和酸性氧化两步，但目前使用的RCA清洗大多包括四步，即先用含*的酸性*进行酸性氧化清洗，再用含胺的弱碱性*进行碱性氧化清洗，接着用稀的****溶液进行清洗，****后用含盐酸的酸性*进行酸性氧化清洗，在每次清洗中间都要用超纯水（DI水）进行*洗，****后再用低沸点*进行干燥。