捷扬光电(图),非接触膜厚检测,膜厚

<*n style='color:#E53333;font-size:24px;'>捷扬光电 JFD-2000 非接触膜厚检测仪 应用领域

<*n style='color:#E53333;font-size:24px;'>

<*n style='color:#E53333;font-size:24px;'>JFD-2000 非接触膜厚检测仪 ，其可测量薄膜厚度在1nm到1mm之间，测量精度高达1埃，测量稳定性高达0.7埃，测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）, 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(****&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applicati*)等。

捷扬光电 JFD-2000 膜厚检测仪 检测实例

<*n style='font-size:18px;'>JFD-2000 膜厚检测仪几乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能测。

<*n style='font-size:18px;'>包括：

<*n style='font-size:18px;'> sio2（二氧化硅）

<*n style='font-size:18px;'>sinx（氮化硅）

<*n style='font-size:18px;'>dlc（类金刚石碳） 

<*n style='font-size:18px;'> photoresist（光刻胶）

<*n style='font-size:18px;'>polyer layers（高分子聚合物层）

<*n style='font-size:18px;'>polymide（聚酰*）

<*n style='font-size:18px;'> polysilicon（多晶硅） 

<*n style='font-size:18px;'>amorphous silicon（非晶硅） 

<*n style='font-size:18px;'>基底实例：  对于厚度测量，大多数情况下所要求的只是一块光滑、反射的基底。对于光学常数测量，需要一块平整的镜面反射基底；如果基底是透明的，基底背面需要进行处理使之不能反射。 

<*n style='font-size:18px;'>包括： 

<*n style='font-size:18px;'> silicon（硅） 

<*n style='font-size:18px;'>glass（玻璃） 

<*n style='font-size:18px;'>aluminum（铝） 

<*n style='font-size:18px;'> gaas（****） 

<*n style='font-size:18px;'>steel（钢） 

<*n style='font-size:18px;'>polycarbonate（聚碳酸脂） 

<*n style='font-size:18px;'>polymer films（高分子聚合物膜）<*n style='font-size:18px;'>

<*n style='font-size:24px;color:#E53333;'>捷扬光电 J<*n style='font-size:24px;color:#E53333;'>FD-2000膜厚检测仪样品要求

<*n style='font-size:18px;'>捷扬光电的JFD-2000对样品要求不会很严格，只要在200-2500nm范围有响应，厚度在0.5-500um范围，即可测量。

<*n style='font-size:18px;'>样品要求：

<*n style='font-size:18px;'>薄膜在200-2500nm内的某一波段可部分透光。

<*n style='font-size:18px;'> 薄膜厚度范围：0.5um-500um（不同厚度范围采用不同配置）。

<*n style='font-size:18px;'> 基底表面和薄膜表面平整。<*n style='font-size:18px;'>

<*n style='font-size:18px;'>