膜厚_捷扬光电_膜厚仪测量原理

捷扬光电 JFD-2000 非接触膜厚检测仪重复性报告

JFD-2000非接触膜厚检测仪重复性、重现性数据报告

重复性检测说明：

样品使用片状涂膜样品，样品厚度约为：4um ，在样品不动的情况下，重复测量50次样品的厚度值。

重现性检测说明：

使用片状涂膜样品，样品厚度约为：4um，检测样品点不变，反复拿出样品和放入样品检测50次的厚度值。

  

捷扬光电 JFD-2000 膜厚检测仪 测量光刻胶的厚度

成功测量光刻胶要面对一些*的挑战， 而 捷扬光电 自动测量系统成功地解决这些问题。 这些挑战包括避免测量光源直接照射， 拥有涵盖广泛的光刻胶折射率资料库, 以及有能力处理光刻胶随烘烤和暴露而改变的折射率。

测量JFD-2000 膜厚检测仪 其它厚光刻胶的厚度有特别重要的应用。 因为旋涂的方法虽简便快速，但可能会导致所需厚度不太准确。 而暴露时间取决于光刻胶的厚度, 因此必须进行准确测量。 另外，由于正负光刻胶可以同时用于制造复杂的多层 MEMS 结构, 了解各层的厚度就变得****端重要。

捷扬光电 提供一系列的和测绘系统来测量 3nm 到 1mm 的单层、 多层、 以及单独的光刻胶薄膜。 捷扬光电JFD-2000膜厚检测仪 能通过准确的光谱反射建模来测量厚度 (和折射率)。 自主研发的算法使得“一键”分析成为可能，通常在一秒钟内即可得到结果。

联络 捷扬光电讨论您的测量需要。

捷扬光电 提供 ****测试 - 一般1-2 天即可得到结果。

捷扬光电 JFD-2000 非接触膜厚检测仪 应用领域

JFD-2000 非接触膜厚检测仪 ，其可测量薄膜厚度在1nm到1mm之间，测量精度高达1埃，测量稳定性高达0.7埃，测量时间只需一到二秒, 并有手动及自动机型可选。可应用领域包括：生物医学（Biomedical）, 液晶显示(Displays), 硬涂层(Hard coats), 金属膜(Metal), 眼镜涂层(Ophthalmic) , 聚对二甲笨(Parylene), 电路板(****&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半导体材料(Semiconductors) , 太阳光伏(Solar photovoltaics), 真空镀层(Vacuum Coatings), 圈筒检查(Web inspection applicati*)等。